Mentor, a Siemens business 日前宣布，其 Tanner? 模擬/混合信號 (AMS) 設計工具 — Tanner S-Edit 原理圖輸入工具和 Tanner L-Edit 版圖編輯器 — 現已獲得認證，可用于 TSMC 的可互操作的 PDK (iPDK)，適用于廣泛的 TSMC 專有工藝技術，以實現高產量的模擬 IC 設計。

Mentor 的 Tanner AMS 設計工具經過優化，可創建全定制模擬或“Analog on Top”混合信號集成電路 (IC)，適用于 22nm 及以上工藝。許多領先的 IC 供應商使用 Mentor 的 Tanner 工具為廣泛的市場（包括汽車、可穿戴設備和工業物聯網 (IoT) 領域）設計高度復雜的 AMS 設備。

“在全球增長速度最快的市場當中，很多市場對專用 AMS 芯片的需求越來越大，這些芯片能夠無縫銜接模擬和數字世界。Mentor 的 Tanner 工具經過專門設計，旨在幫助 IC 設計人員滿足這一日益增長的需求，同時為創建高度創新的 AMS 設計提供一個理想的平臺。”Mentor, a Siemens business 的集成電路設計系統部總經理 Greg Lebsack 表示，“適用于支持模擬 IC 設計的 TSMC 專有工藝的 Tanner AMS 工具已獲得認證，這對我們的客戶來說是個好消息，它有助于加快上市時間和降低風險。對我們的共同客戶來說，Mentor Tanner AMS 解決方案與 TSMC 專有工藝結合用于模擬 IC 設計是真正的強強聯合。”

TSMC 用于專有工藝技術的 iPDK 可幫助芯片制造商滿足前沿 AMS IC 設計的特定要求。Mentor 的 AMS 工具現已獲得認證，可用于許多晶圓代工廠的 iPDK，包括 22nm 超低功耗、28nm 高性能計算、40nm 混合信號技術以及適用于當今最先進的模擬 IC 的其他專有工藝技術。

“我們與 Mentor 之間的長期合作可確保能在特殊節點為我們雙方的客戶提供成功設計和制造芯片所需的 EDA 解決方案和服務以及相關支持，”TSMC 設計基礎架構管理事業部高級總監 Suk Lee 表示，“這項合作成果結合了 TSMC 的專有工藝技術與 Mentor 的高級設計工具，幫助我們的客戶在汽車、智能可穿戴設備和工業物聯網等廣泛的市場領域中獲得創新成功。”