掩模光罩盒需要能夠使用多年，因而它們必須滿足當前和未來 EUV 光刻的要求。因此，現(xiàn)今的光罩盒設計人員應該考慮設計兩款光罩盒，一款具有可容納薄膜的空  間，另一款可在不添加薄膜的情況下使用。可通過添加薄膜袋來修改內(nèi)光罩盒，但仍要滿足光罩盒的整體尺寸和重量要求。

要設計與薄膜兼容的光罩盒，光罩盒制造商、薄膜供應商和光刻機制造商需要密切協(xié)作。自動化設備假定內(nèi)光罩盒的重量變化范圍很小，這意味著在為了制作薄膜袋而去除一部分材料后，必須在光罩盒的其他地方添加相近的重量。確定內(nèi)光罩盒中接觸點和窗口的位置時，必須考慮薄膜的幾何結(jié)構(gòu)。

薄膜極其易碎。在進行光刻操作期間，真空凈化和通風會導致內(nèi)光罩盒中發(fā)生壓力變化。必須將此壓差控制在特定閾值以下，從而過度偏轉(zhuǎn)也不會損壞薄膜。在與薄膜兼容的內(nèi)光罩盒中正確放置窗口可以提供可見性，這樣光刻機就能夠檢測薄膜損壞情況。

EUV 設備必須能夠處理帶有或不帶薄膜的掩模，并能夠區(qū)分這兩種掩模之間的區(qū)別。如果不小心將帶有薄膜的掩模放入沒有薄膜袋的光罩盒，將會對薄膜造成不可挽回的損傷。內(nèi)光罩盒應包含相應設計功能，確保 EUV 設備中的攝像頭能掃描并光學檢測出光罩盒類型，從而降低錯誤識別光罩盒的風險。

總結(jié)

EUV 掩模光罩盒是一種高度專業(yè)化的設備，在 EUV 光刻中起著至關(guān)重要的作用。在使用、存儲和運輸過程中，它們必須保護掩模，同時確保不引入其他污染物或?qū)е聯(lián)p壞。光罩盒必須與光刻設備兼容，還要能夠保持為掩模提供干潔的環(huán)境。對于帶有和不帶薄膜的掩模，精確設計的雙光罩盒配置可以實現(xiàn)這些目標，從而確保 EUV 光刻技術(shù)滿足未來發(fā)展需求。